采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.1%FS;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用高性能 EMC 防(fang)護(hu)電(dian)路(lu)模(mo)塊,有效降(jiang)低電(dian)磁擾(rao)動對(dui)產品的輸(shu)出影(ying)響(xiang)。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達±0.075%FS + 隔膜系統的影響;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用高性(xing)能 EMC 防護電路(lu)模(mo)塊(kuai),有效降低電磁(ci)擾動對產品的輸出(chu)影響。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.075%FS + 隔膜系統的影響;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采(cai)用高性能 EMC 防護(hu)電(dian)路模塊(kuai),有效降(jiang)低電(dian)磁(ci)擾動(dong)對產品(pin)的輸(shu)出影響。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.1%FS;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用(yong)高性能(neng) EMC 防護電路模塊(kuai),有效降低(di)電磁(ci)擾(rao)動對產品的輸出影響(xiang)。
采用單晶硅壓阻技術,性能穩定,精度可達0.075%FS;
高過載保護膜片,實現大壓力過載保護功能;
采用高性能 EMC 防護電路模塊,有效降低電磁擾動對產品的輸出影響;
穩定性強(qiang)可達 ±0.1%SPAN/5 年。
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